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光學(xué)膜涂布機(jī)設(shè)備與涂布技術(shù)

 添加時(shí)間:2022/11/2

 

一、不同光學(xué)膜產(chǎn)品不同涂布方式的選擇

1、具有微結(jié)構(gòu)光學(xué)膜產(chǎn)品的涂布方式

(1)棱鏡膜又稱增亮膜(BEF),涂布特點(diǎn)是棱鏡膜涂布厚度為:基材:PET薄膜 38~250μm,涂布方式為輥涂,最好選用三輥涂布。

(2)擴(kuò)散膜(包括上擴(kuò)散和下擴(kuò)散膜),擴(kuò)散膜涂布厚度通常在10~20um ,技術(shù)規(guī)范給出的厚度誤差為±5%,減去基材厚度誤差的1%后,還剩下4%,厚度誤差?。?lt;2um),一般采用刮刀輥涂布,涂布厚度調(diào)節(jié)范圍大,適應(yīng)涂布厚度10~30um,涂料粘度20~100s的各類膠水的涂布。計(jì)量輥涂布有線輥和網(wǎng)紋輥涂布,適應(yīng)涂布厚度在10um左右,粘度低于20s的各類膠水的涂布。最好選用計(jì)量輥涂布和狹縫涂布方式。

2、做平面涂布的光學(xué)膜產(chǎn)品的涂布方式

(1)硬化膜類:LCD抗反射膜AR,LR(抗炫AG),IMD手機(jī)外殼表面抗刮和耐磨層。涂布特點(diǎn):涂布量小,均勻。硬涂層的厚度在0.5-50μm之間的厚度是正常的,在1-20μm和2-10μm之間是比較合適的,但最好是在3到7μm之間。涂布可選用:微凹版、狹縫涂布、逗號(hào)刮刀等,最好的涂布方式是為了對膠水的適應(yīng)性廣,同時(shí)配備兩種涂布頭,選用微凹版和狹縫涂布。

二、硬化膜(抗刮膜)高精密涂布機(jī)技術(shù)介紹

應(yīng)用于IMD抗刮膜的特點(diǎn):具備較好耐刮性,硬度要求高,若以鉛筆硬度表示,一般光學(xué)膜為3H,強(qiáng)化型光學(xué)膜要求達(dá)到4H~5H硬度。

涂布機(jī)設(shè)計(jì)工藝流程按照:

(一)雙工位PET光學(xué)膜基材放卷→自動(dòng)換卷裁切→表面電暈處理→糾偏→牽引及張力分隔→微凹版涂布頭(涂膠量小,粘度低時(shí)使用)→狹縫涂布頭(涂膠量大及粘度高時(shí)使用)→真空吸附輥牽引→21M熱風(fēng)干燥→UV固化→糾偏→與保護(hù)膜復(fù)合→噴碼→收卷                                      保護(hù)膜放卷→糾偏→

(二)在硬化層涂布完成后再在背面涂布硅膠→與離型膜復(fù)合

1、微凹版涂布技術(shù) Micro Roller System

微凹版涂布技術(shù)適用于溶劑型中低粘度涂布液。

粘度范圍: 10 ~800 cps

涂布量: 5 ~80 g/m2

涂布厚度1~40um 濕涂厚度, 偶爾也可以涂到0.5~80um

涂布基材:PET 1.6~350 um.

線速度: 5 ~ 40 mpm


微凹版涂布可以為使用者提供多種調(diào)整方式。兩支導(dǎo)輥的位置決定了微凹版與基材之間的接觸角度,包角的大小和線接觸可調(diào)。

微凹版涂布法和傳統(tǒng)凹版涂布比較:


微凹版涂布方式是為了滿足均勻平整的小涂布量要求而發(fā)展起來的新技術(shù),它簡單可靠,并且可重復(fù)。


凹版輥表面雕刻有圖案或槽穴,凹版輥兩端安裝高精密軸承,輥面部分浸在供料槽里,一端通過彈性聯(lián)軸節(jié)與伺服電機(jī)聯(lián)結(jié),電機(jī)帶動(dòng)凹版輥旋轉(zhuǎn)從液槽中帶起涂料,經(jīng)過一個(gè)柔性鋼刮刀定量后,凹版輥圖案臺(tái)階上的物料被刮拭干凈,凹槽中保留一定體積的涂布液,當(dāng)帶有定量涂布液的輥面與反向運(yùn)動(dòng)基材接觸后,涂布液在接觸處形成潤濕線,涂布液在表面張力作用下潤濕基材,凹槽中的涂布液由于粘性拉拽力被取出、進(jìn)而轉(zhuǎn)移到基材表面后潤濕、鋪展,實(shí)現(xiàn)均勻薄層涂布。


標(biāo)準(zhǔn)凹版(網(wǎng)紋輥)涂布可分為正涂和逆涂,但都必須使用直徑約與網(wǎng)紋輥大致相同的橡膠壓輥。涂布基材從網(wǎng)紋輥和壓輥之間通過。經(jīng)常遇到起皺和斷開的問題,另外壓輥接觸面還會(huì)帶來一些機(jī)械的、液壓的和壓力方面問題,影響涂布質(zhì)量。


小直徑使微凹版與基材之間的接觸區(qū)域也變得很小。不同的直徑明顯會(huì)形成不同的包角。通常情況,比較大的接觸面所帶來的涂布問題遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于接觸面小的。


傳統(tǒng)的凹版涂布,在基材進(jìn)涂布點(diǎn)和出涂布點(diǎn)上存在涂布液堆積,這些滴液會(huì)造成涂布循環(huán)紊亂。傳統(tǒng)網(wǎng)紋輥直徑越大干擾滴液也越大,對涂布造成的不良影響越大。加上壓輥,壓輥可能出現(xiàn)傾斜,或者其他機(jī)械問題,涂布質(zhì)量就更難以保證。

微凹版由于沒有壓輥就基本消除了因壓輥造成的不良影響,干擾滴液的問題也因?yàn)檩伒闹睆叫《鞠?,入點(diǎn)和出點(diǎn)上的滴液量很少很穩(wěn)定。


彈性流體動(dòng)力接觸系統(tǒng)

當(dāng)物理系統(tǒng)同時(shí)牽涉到流體流動(dòng)造成的流體摩擦力與可變形固體所產(chǎn)生的彈性應(yīng)力。并且此變形固體成為流體流動(dòng)的邊界,這種相互作用的系統(tǒng)稱之為彈性流體動(dòng)力接觸系統(tǒng) (elastohydrodynamic systems, EHD)。

微凹版涂布方式中基材相當(dāng)于可變形固體,涂布液則是其中的流體。微凹版涂布方式能夠?qū)崿F(xiàn)高度均勻性的薄層涂布就是由于微凹版涂布方式應(yīng)用了彈性流體動(dòng)力接觸系統(tǒng),其涂布間隙不再受背輥加工精度影響,涂布間隙主要由基材張力決定,間隙可以隨基材表面的改變而變化,實(shí)現(xiàn)輪廓型涂布。

常用概念包括:

(1)潤濕線、(2)包角、(3)上游分界線(upstream)和下游分界線(downstream)、(4)速度比s、(5)轉(zhuǎn)移率。


微凹版涂布彎月面

厚度公式

N. Kapur等在凹版涂布工藝研究中發(fā)現(xiàn)在其他條件不變的情況下:

    H=1.34R(μv/σ)2/3

其中:H—涂層濕厚;R—涂珠彎月面半徑;μ—粘度;v—流體速度;(σ)表面張力。Blok 與van Rossum(1953)將薄膜以180°包覆一滾輪且使用油作潤滑劑,膜與滾輪之間的間隙為H=0.43R(6μv/N)2/3。

其中:R—滾輪半徑;N—薄膜張力;μ—粘度;v—滾輪轉(zhuǎn)速(線速度)。這個(gè)公式雖然沒有直接提供液膜厚度,但是H作為薄膜與滾輪之間的間隙是涂層厚度的重要影響要素,我們通過這一試驗(yàn)驗(yàn)證涂布張力是涂膜厚度的重要影響因素。綜合以上2個(gè)公式來看我們不難得出以下結(jié)論:h∝R(μv/σN)2/3    

其中:h—涂層濕厚度;R—凹版輥半徑;N—薄膜張力;μ—粘度;v—滾輪轉(zhuǎn)速(線速度);σ—涂布液表面張力。這個(gè)公式全面概括了微凹版涂布厚度的影響因素,以及各因素對厚度的影響關(guān)系,對試驗(yàn)、生產(chǎn)具有指導(dǎo)意義。

微凹版涂布工藝

微凹版涂布技術(shù)在國外已經(jīng)是比較成熟的涂布技術(shù),其操作控制基本采用自動(dòng)化電氣控制,一般的控制過程包括:刮刀進(jìn)、退,刮刀壓下、抬起,懸臂壓下、抬起,kiss輥壓下、抬起,涂布輥速(或速度比s)調(diào)解。涂布頭上的手動(dòng)機(jī)械調(diào)節(jié)部分包括:刮刀角度、壓力,包角大小調(diào)整,這些機(jī)械調(diào)整一旦確定后一般不會(huì)改變,只有在涂層出現(xiàn)表觀弊病時(shí)才會(huì)做微量調(diào)整。另外,拖動(dòng)控制部分與其他方式的控制基本相同,只是提出的控制精度會(huì)更高些,這與產(chǎn)品的性能要求相關(guān),一般微凹版涂布的產(chǎn)品均勻性要求都很高。

涂層厚度控制

微凹版涂布不屬于精確預(yù)定量涂布,有別于坡流、落簾和條縫,其涂布量要根據(jù)物料和涂布工藝條件來確定。

首先,微凹版涂布的涂布量主要由凹版輥的網(wǎng)孔容積決定。凹版輥?zhàn)陨韺ν坎家恨D(zhuǎn)移率的影響要素有:網(wǎng)紋輥線數(shù)、開口與網(wǎng)墻比、網(wǎng)穴形狀、網(wǎng)穴深度、網(wǎng)穴表面光潔度、網(wǎng)線角度,這些都直接跟凹版輥制作有關(guān)。

物料從孔穴里取出率與車速與凹版輥線、速度的比率S的關(guān)系。


涂布液從網(wǎng)孔里取出百分?jǐn)?shù)與比率S關(guān)系

可以看出在S比例一定的情況下(1~1.5之間),適當(dāng)增加包角也可以增加涂層厚度,但這種調(diào)整都是微量的,并且包角過大易產(chǎn)生渦流,從而捕獲空氣或粒子造成拉絲弊病。


涂層厚度與比率S關(guān)系

h∝R(μv/σN)2/3這個(gè)公式全面概括了微凹版涂布厚度的影響因素,以及各因素對厚度的影響關(guān)系,其他條件一定,涂層厚度與粘度成正比,與表面張力成反比。式中的μv/σ恰好是毛細(xì)準(zhǔn)數(shù)的度量,因此隨毛細(xì)準(zhǔn)數(shù)增長與涂層厚度增加。式中的涂布張力N的增加則會(huì)減小涂布間隙,最終減薄涂層,因此在實(shí)際生產(chǎn)與試驗(yàn)過程中要不斷摸索每根涂布輥針對不同特性物料與涂布工藝參數(shù)的涂層厚度,積累經(jīng)驗(yàn),以便在較短的時(shí)間內(nèi)選擇滿足厚度要求的凹版輥。


微凹涂布法中的涂布條件,整個(gè)凹版輥表面的網(wǎng)線數(shù)在50到800線每英寸都是可以的,在100到300線每英寸就很合適。網(wǎng)線的雕刻深度在1到600μm都是可以的,在5到200μm之間更合適。微凹版輥的旋轉(zhuǎn)速度在3到800轉(zhuǎn)每分之間都是可以的,在5到200轉(zhuǎn)每分之間最好?;牡膫鬏斔俣仍?.5到100米每分鐘之間都是可以的,在1到50米每分鐘之間最好。更多涂布機(jī)信息請?jiān)L問:http://insiti.net/ 

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